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Seria o memristor ferroelétrico a memória do futuro ?

Até o presente, os memristores (do inglês, memory resistor) repousavam sobre a transferência de íons ou de átomos em um material sob o efeito de uma tensão elétrica e de uma brusca elevação de temperatura, provocada pela corrente elétrica. Este procedimento, contudo, era grande consumidor de energia. Por isso, uma equipe de pesquisa, associando o CNRS (Conselho Nacional de Pesquisas da França), Thales e a Universidade de Cambridge, desenvolveu um novo tipo de memristor, o qual economiza bem mais energia.



Memristor

Créditos: RTFlash.


Estes pesquisadores construíram um novo tipo de memristor, que repousa sobre uma propriedade quântica da matéria, o efeito túnel, que permite aos elétrons "saltar" através de uma finíssima camada de material ferroelétrico, polarizado eletricamente, como um ímã. Graças a este dispositivo, a corrente elétrica alcança um fator de 300, em função da orientação da polarização. Além disso, a polarização pode ser invertida, sob o efeito de um campo elétrico exterior. Modulando este campo elétrico, é possível fazer variar a resistência elétrica.

Este novo tipo de memristor pode ser utilizado como memória numérica ou analógica. Ainda por cima, ele é particularmente simples e consome dez vezes menos que as memórias flash, para um tempo de escrita de uma dezena de nanossegundos. Finalmente, outra vantagem: esta memória é regravável mais de 1000 vezes, contra uma centena para as memórias flash.

Mais econômico, mais rápido, mais robusto? Este memristor poderia muito bem ser um elemento essencial para a construção de neurônios artificiais.

RTFlash (Tradução - MIA).


Nota do Scientific Editor - O trabalho "A ferroelectric memristor", que deu origem a esta notícia, é de autoria André Chanthbouala, Vincent Garcia, Ryan O. Cherifi, Karim, Bouzehouane, Stéphane Fusil, Xavier Moya, Stéphane Xavier, Hiroyuki Yamada, Cyrile Deranlot, Neil D. Mathur, Manuel Bibes, Agnès Barthélémy e Julie Grollier, tendo sido publicado na revista Nature Materials, Volume 11, págs. 860-864 (2012), DOI: 10.1038/nmat3415.


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