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NOVIDADES
Na preparação do grafeno utilizando o método de deposição química em fase de vapor (do inglês Chemical Vapor Deposition, CVD), concretamente, os átomos de oxigênio reagem com moléculas de metano (CH4) para separar o hidrogênio do carbono, sendo que este último, em seguida, atravessa uma folha de cobre para formar a segunda camada de grafeno. Desta maneira se obtém um grafeno bicamada que tem um gap (banda não permitida) de 125 meV. Este valor não é suficiente para fabricar um transistor. Comparativamente, o gap do silício é de 1,11 eV. Ou seja, é muito melhor do que grafeno bicamada e bom o suficiente para aplicações ópticas em circuitos fotônicos.  Estrutura do grafeno Créditos: Tomshardware Hoje em dia são muito populares as pesquisas com grafeno. Um dos problemas é que seu gap que o faz um excelente condutor, por outro lado, o transforma num péssimo semicondutor. Para remediar este problema, é possível criar um grafeno bicamada. Refrescando a memória, o grafeno é uma folha de átomos de carbono organizados com o um "ninho de abelhas", com somente um átomo de espessura. Um grafeno bicamada é a união de duas folhas de grafeno distintas sendo uma estrutura que dispõe de um gap contrariamente a uma folha de grafeno monocamada. O problema é que o grafeno bicamada é muito difícil de fabricar em razão do fato que os átmos de duas camadas devem estar perfeitamente alinhados. O gap desta estrutura resta ainda muito pequeno. Com este novo método de fabricação, é possível produzir grafenos bicamadas um mais facilmente e, sobretudo com um gap maior. Tomshardware (Tradução - MIA/OLA). |
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